氫分析儀器的儀器應(yīng)用及環(huán)境要求
更新日期：2019-11-20點(diǎn)擊次數(shù)：2731
氫分析器（以下簡(jiǎn)稱(chēng)儀器）是專(zhuān)門(mén)研制的數(shù)字化熱導(dǎo)式氫分析器?？捎糜谶B續(xù)測(cè)定多種工業(yè)流程或?qū)嶒?yàn)室產(chǎn)生的氫氣的濃度。該儀器采用了數(shù)字化處理技術(shù)，其零點(diǎn)校準(zhǔn)、量程校準(zhǔn)、線(xiàn)性化處理、溫度補(bǔ)償、開(kāi)關(guān)量輸出控制、電流輸出、系統(tǒng)設(shè)置等功能，均使用數(shù)字處理技術(shù)。
儀器應(yīng)用及環(huán)境要求：
氫分析儀器應(yīng)用廣泛，但同時(shí)也須注意其使用環(huán)境的要求。
使用環(huán)境：
環(huán)境溫度：(5～45)℃
環(huán)境濕度：≤80%
空氣流速：≤0.5m/s
工作環(huán)境：無(wú)強(qiáng)磁場(chǎng)、強(qiáng)電場(chǎng)干擾，無(wú)強(qiáng)烈腐蝕性氣體，無(wú)強(qiáng)烈機(jī)械震動(dòng)，避免陽(yáng)光直射。
工作位置：儀器水平放置。
應(yīng)用范圍：
該儀器適合于在以下各領(lǐng)域中使用：
氨廠合成氣中H2含量測(cè)量；
加氫裝置中H2純度測(cè)量；
電解水制氫、氧過(guò)程中chunH2中O2和純O2中H2的測(cè)量；
氯qi生產(chǎn)流程中Cl2中H2的測(cè)量；
碳?xì)浠衔餁怏w中H2含量測(cè)量；
氫冷發(fā)電機(jī)組中H2含量的監(jiān)測(cè)；
化肥廠氮肥合成氨流程中新鮮氣及循環(huán)氣中的H2百分含量分析；
核電站對(duì)安全殼內(nèi)氫泄漏的監(jiān)測(cè)和氫冷系統(tǒng)中對(duì)氫濃度的監(jiān)測(cè)；
實(shí)驗(yàn)室中各種燃燒試驗(yàn)的氣體含量測(cè)定；
制氣站或其它氣體中氫氣純度分析。